Tyhjiöpinnoituskoneiden kehitystä Kiinassa rajoittavat monet tekijät, erityisesti tantaalin ja pinnoituskoneiden haihdutuslähteiden valmistuksessa käytetyn pääraaka-aineen, tantalista valmistettujen osien käsittely.Tantaali ja tantaalilejeeringitsoveltuvat tukitarvikkeiden, lämmittimien ja lämpösuojien valmistukseen tyhjiölaitteistoissa korkean sulamispisteensä, hyvän stabiiliutensa ja alhaisen höyrynpaineensa ansiosta korkeissa lämpötiloissa. Tällä hetkellä harvat kotimaiset yritykset harjoittavat tantaaliosien tuotantoa tyhjiöhaihduttimille, mikä johtaa suureen riippuvuuteen tyhjöhaihduttimien tantaaliosien tuonnista, ja Kiinassa on monia vaikeuksia tyhjiöhaihduttimien tantaaliosien tuotannossa ja valmistuksessa.
Vastuslämmitystä käytetään usein haihdutuslähteenä materiaaleille, joiden haihtumislämpötila on 1 000~2 000 C. Yleensä vaaditaan, että haihdutuksen lähdemateriaalin sulamispiste on noin 1000 C korkeampi kuin haihtumisen. työlämpötila, tasapainohöyryn paine on alhainen, hauraus korkean lämpötilan jäähdytyksen jälkeen on pieni ja sillä on hyvä kemiallinen stabiilisuus tyhjiöympäristössä. Siksi tantaali on yleinen tyhjöhaihdutusmateriaali.
Tantaali on vaaleanharmaa metalli, jonka väri on hieman sininen ja jonka tiheys on korkea (16,5) × 103 kg/m3, korkea sulamispiste (2 996 C), pieni lineaarilaajenemiskerroin (6,5 välillä) 0 ja 100 C) × 10-6 K-1), sitkeä, sitkeämpi kuin kupari, kylmävedetty hienoksi langaksi tai kalvoksi. Tantaalin lämmönjohtavuus lämpötilassa 300 K on 52,1 W (m K) -1 ja kimmomoduuli on 192 × 103 MPa huoneenlämpötilassa.
Ta1:n tantaalipitoisuus on yli 90,35 prosenttia; Ta2 sisältää yli 79,50 prosenttia tantaalia. Tantaalin puhtaus on kuitenkin yli 99,95 prosenttia tavallisessa tyhjöhaihdutuspinnoituksessa ja 99,99 prosenttia huippuluokan OLED-pinnoituskoneissa. On selvää, että tantaalin perusvaatimuksia tyhjiöpinnoituksessa ei voida täyttää käyttämällä olemassa olevia merkkejä ja standardeja. Erittäin puhtaan tantaalin tuotannosta on tullut keskeinen tekijä, joka rajoittaa alipainepinnoituskoneiden tantaaliosien sijaintia.
Muiden metallielementtien (kuten Fe, Ni jne.) alhainen sulamispiste tai korkea tasapainohöyrynpaine (kuten W) tai alhainen stabiilisuus (Ti) tantaalimateriaalissa. Kun matalapuhtainen tantaalimateriaali haihtuu korkeissa lämpötiloissa, muut metallielementit voivat hajota ja haihtua tai reagoida muiden molekyylien kanssa haihdutuskammiossa, jolloin kalvokomponentit poikkeavat haihduttimen materiaalikomponenteista. Siksi erittäin puhtaiden tantaaliosien tyhjöhaihdutus voi vähentää merkittävästi haihtumislähdemateriaalin saastumista pinnoitteeseen.
